上世纪80年代,日本企业占据了全球半导体前十榜单的半壁江山,一度位居世界第一,约占世界总销售额的一半。但随着90年代以后韩国在DRAM领域的弯道超车和来自美国的打压,日本半导体产业就此衰落,在Gartner不久前公布的2022年十大半导体供应商的名单中已不见日本企业的身影,全年营收超过100亿美元的企业中也仅有铠侠一家上榜。
尽管日本半导体产业早已不复三十年前的辉煌,在产业链上游的芯片制造环节,硅片、电子气体、掩膜版、光刻胶配套化学品、抛光材料、光刻胶、湿化学品、溅射靶材等多种关键半导体材料和设备都高度依赖日本企业。SEMI数据显示,日本企业在全球半导体材料和制造设备市场所占的份额分别高达52%和30%。
芯片制造涉及到19种关键材料,且其中多数都具有较高的技术壁垒,而日本企业在其中14种关键材料中占据了全球超过50%的市场份额,在其余几种材料的龙头企业中也不乏日本企业的身影。可见日本在半导体产业上游制造环节的布局广泛,实力雄厚。本文对日本厂商在晶圆制造八大材料上的布局进行梳理。
硅片
硅片是集成电路制造和生产过程中最重要的原材料,其市场规模占到了半导体材料市场的35%,目前有超过90%的集成电路芯片以硅作为衬底材料。 硅片的质量直接影响集成电路芯片的品质,集成电路制造所用的硅片的纯度和原子排列方式都有非常严格的要求,通常要求纯度不得低于99.9999%,高端芯片的硅片材料纯度甚至需要达到99.9999999%以上。
根据SEMI数据,2020年全球前五大半导体硅片厂商共占据全球半导体硅片市场超过85%的份额。其中日本的信越化学和SUMCO位列第一第二,市占率分别27.53%和21.51%,合计市场份额超过45%。
信越化学:信越化学是全球第一大硅片生产商,成立于1926年,主营业务包括半导体硅片业务、PVC 及化工产品、有机硅和电子材料等。其在1999年并购了日立的硅片业务,于2001年开始大规模量产12吋半导体硅片,半导体硅片产品类型包括12吋半导体硅片在内的各尺寸硅片(含SOI硅片)。
SUMCO:日本盛高(SUMCO)是日本的高纯硅制造商、世界第二大硅晶圆生产商,1999年7月,公司由住友金属工业株式会社,三菱材料公司和三菱材料硅公司共同投资成立硅晶圆联合制作所;2002年从住友金属工业收购硅片业务,并与三菱硅材料合并,2005年更名SUMCO,并于东京证券交易所上市;2006年收购小松电子金属;主要产品包括100-300mm半导体硅片与SOI硅片。
光刻胶及配套试剂
光刻胶,又称为光致抗蚀剂,是一种光敏性复合材料,由溶剂、树脂、光敏剂(光引发剂、光致产酸剂)和助剂等成分组成,在紫外光或电子束等作用下光刻胶的溶解性会发生显著变化。其中树脂用于将光刻胶中不同材料聚合在一起,构成光刻胶的骨架,决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性;光敏剂是光刻胶的关键成分,对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用;溶剂则是光刻胶中最大成分,目的是使光刻胶处于液态,但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎无影响;助剂用来控制和改变光刻胶材料的特定化学性质或光响应特性,各个制造商均有独自的配方,不对外公开。
光刻胶配套试剂是指在集成电路制造中与光刻胶配套使用的试剂,主要包括增黏剂、稀释剂、去边剂、显影液和剥离液。
近年来,随着下游制造端持续扩厂,光刻胶的需求十分高涨,据SEMI统计,2021年全球半导体光刻胶市场规模达24.71亿美元,较上年同期增长19.49%。从厂商/地区来看,根据华经产业研究院统计,2021 年全球光刻胶(包括PCB、面板光刻胶以及其他)市场份额中,日本厂商东京应化、JSR、住友化学及富士胶片的市场占有率合计达到 60%,美国杜邦市占率 17%,韩国东进 11%。由此可见,全球光刻胶行业高度集中,基本被日本和美国企业所垄断。
主要的日本企业:JSR、信越化学、东京应化、住友化学、富士胶片等。
JSR:JSR目前主要业务包括合成橡胶、数码解决方案、塑料与生命科学等。其产品种类丰富,可满足各种工艺需求,自1979年4月开始销售光刻胶以来,以满足半导体行业的需求为宗旨,40多年来不断的向全球客户提供光刻材料、CMP材料和封装材料。产品包括:用于离子注入、栅极和配线工艺图案的光刻胶,用于CMP工艺的研磨液和清洗剂,以及用于封装各个工艺流程的临时键合材料、厚膜加工用光刻胶和感光性绝缘膜材料等。JSR的光刻胶产品覆盖成熟至先进制程,提供i/g-line、KrF、ArF、多层材料等完整产品线,并且可以实现EUV光刻胶的量产。
东京应化:成立于1936年,为全球领先的半导体光刻胶生产商,产品覆盖橡胶型负性光刻胶、g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、EUV光刻胶、电子光束光刻胶等。目前东京应化在光刻胶领域综合实力位列第一,除了在ArF 光刻胶领域以16%的市占率位于JSR(25%)、信越化学(22%)、住友化学(17%)之后,在其他三个领域的份额均位列第一,其中在EUV 光刻胶领域独占鳌头,一家占据一半以上的份额。
信越化学:光刻胶业务隶属于电子和功能材料部门,利用其材料制造商的优势,信越化学从原料聚合物的合成到化合进行一体化生产。信越化学KrF和ArF光刻胶被用于蚀刻半导体电路的光敏材料,厚膜i线光刻胶被广泛用于薄膜磁头和MEMS应用。
住友化学:光刻胶产品线丰富,可对应i线、KrF准分子激光、ArF准分子激光、液浸式ArF准分子激光、电子束等各种曝光工艺,与此同时不断追求更高的性能。i线用光刻胶产品类型齐全,可匹配各种用途;先进工艺的液浸式ArF光刻胶可配合客户的研发速度,提供兼具品质稳定性和超高分辨性能的产品,为半导体元件的发展作出贡献。此外,还提供各种新用途的高性能、高品质产品。如日益高集成/大容量化的三维闪存生产及半导体元件封装工艺中使用的厚膜光刻胶等。同时,可对应下一代先进生产工艺的EUV光刻胶已研发成功并量产。
富士胶片:成立于1934年,最早致力于感光材料产品的生产。在胶片时代,富士胶片的照相机胶卷、光学素质和相关冲印材料长期处于行业领导位置。富士胶片基于在胶片业务中积累的光学和化学优势,将业务板块延展为医疗&材料解决方案、文件解决方案、影像解决方案三大业务及9个子板块,并实现业绩的稳定增长。富士胶片的光刻胶业务隶属于医疗&材料解决方案中的高功能材料板块。目前,富士胶片的光刻胶产品覆盖负胶、i线、KrF、ArF、电子束胶等,EUV光刻胶业务也已正式启动。
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